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大口径（φ195mm）下实现高陡度面型，F数0.6。
RMS优于8nm@632.8nm，PV优于80nm@632.8nm，达精密抛光水平。
大口径紫外非球面：用于光刻照明、高NA投影及强激光整形等系统。
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大口径（φ195mm）下实现高陡度面型，F数0.6。
RMS优于8nm@632.8nm，PV优于80nm@632.8nm，达精密抛光水平。
大口径紫外非球面：用于光刻照明、高NA投影及强激光整形等系统。
